| Найдено документов - 2 | Статьи из номера журнала: ЭЛЕКТРОННАЯ ТЕХНИКА. Серия 3. МИКРОЭЛЕКТРОНИКА. 4(188). - Москва : НИИМЭ, 2022. - Текст : электронный. | Версия для печати |
Сортировать по:
1. Статья из журнала
| Смирнова, В. П. Моделирование в цилиндрических координатах воздействия ТЗЧ на МОП-структуру для оценки сечения сбоя / В. П. Смирнова, Т. Ю. Крупкина, В. Д. Мещанов. - Текст : электронный // ЭЛЕКТРОННАЯ ТЕХНИКА. Серия 3. МИКРОЭЛЕКТРОНИКА. - Москва : НИИМЭ, 2022. - № 4(188). - С. 70-80. - URL: https://www.elibrary.ru/item.asp?id=53830899 (дата обращения: 31.05.2023). | |
| Авторы: | Смирнова, В. П., Крупкина, Т. Ю., Мещанов, В. Д. |
| Ключевые слова: | КМОП ИС, Радиационная стойкость, СОЗУ, Ячейки памяти, TCAD |
| Аннотация: | Представлена модель в цилиндрических координатах для приборно-технологического моделирования эффектов воздействия ТЗЧ на n-МОП-структуру в TCAD. Выработанный критерий сбоя на основе граничного тока позволяет определить радиус воздействия диффузионного тока, возникшего от частицы. Предложена методика быстрой аналитической оценки сечения сбоя микросхемы памяти с использованием полученных результатов моделирования. Проведена апробация методики с использованием экспериментальных данных, полученных по результатам испытаний опытных образцов микросхем СОЗУ информационной емкостью 16 Мбит, изготовленных по технологии КМОП с проектными нормами 90 нм |
| Поиск: | Источник |
| Ссылка на ресурс: | https://www.elibrary.ru/item.asp?id=53830899 |
2. Статья из журнала
| Вакуумная установка с электронно-лучевым испарителем и шлюзовой загрузкой групповых подложкодержателей = Vacuum unit with electron-beam evaporator and vacuum loading of group substrate holders / А. В. Хошев, Е. В. Аверьянов, В. В. Одиноков [и др.]. - Текст : электронный // ЭЛЕКТРОННАЯ ТЕХНИКА. Серия 3. МИКРОЭЛЕКТРОНИКА. - Москва : НИИМЭ, 2022. - № 4(188). - С. 24-33. - (статья представлена на рус. и англ. яз.). - URL: https://www.elibrary.ru/item.asp?id=53830894 (статья на англ. языке) (дата обращения: 31.05.2023). - URL: https://www.elibrary.ru/item.asp?id=53830893 (дата обращения: 31.05.2023). | |
| Авторы: | Хошев, А. В., Аверьянов, Е. В., Одиноков, В. В., Костюков, Д. А., Овцин, А. А. |
| Ключевые слова: | Электронно-лучевое испарение, Тигель, Тонкие пленки, Взрывная фотолитография, Оборудование, Технологии, ELECTRON-BEAM EVAPORATION, VACUUM, THIN FILMS, LIF-OFF, EQUIPMENT |
| Аннотация: | A new vacuum unit (ELU TM 1Sh) with mult-crucible electron beam evaporation (EBE) and lock loading of group substrate holders for 100-150 mm wafers has been developed. The unit is intended mainly for deposition of single-layer or multilayer films in explosive photolithography technology |
| Поиск: | Источник |
| Ссылка на ресурс: | https://www.elibrary.ru/item.asp?id=53830893 |
| Ссылка на ресурс: | https://www.elibrary.ru/item.asp?id=53830894 |