| Найдено документов - 1 | Источник: Investigation of the influence of silicon wafer temperature in the bosch process on the characteristics of deep structures formed with small aspect ratios / A. A. Golishnikov, V. V. Paramonov, I... | Версия для печати |
Сортировать по:
1. Номер журнала
| ЭЛЕКТРОННАЯ ТЕХНИКА. Серия 3. МИКРОЭЛЕКТРОНИКА. 3(195). - Москва : НИИМЭ, 2024. - Текст : непосредственный : электронный. | |
| Экземпляры: | Всего: 1, из них: чз(Архив)-1 |
| Поиск: | Статьи из номера журнала (сборника) Источник |